 | 本設備是一款超高分辨率低真空場發射掃描電鏡， 具有高真空和低真空（<200Pa）兩種真空模式，可以 對有機材料、基板、多孔材料、塑料以及高聚物材料等 有電荷積累的樣品或污染性樣品進行超高分辨率表征。 性能及指標 1、分辨率：高真空模式：1.0nm @15kV，1.4nm @1kV 低真空模式：1.5nm @10kV（Helix探測器）， 1.8nm @ 3kV（Helix探測器） 2、加速電壓：500V~30kV連續可調； 3、電子束流范圍：0.6pA~200nA連續可調； 4、樣品臺移動范圍：X=Y=110mm； 5、電子束參數：射束著陸能量：500eV-30keV； 6、標樣放大倍數：40倍~60萬倍； 7、傾斜角度：-10°~70° |
功能及用途 1、采集二次電子、背散射電子等信號對各種固體材料進行的微觀形貌分析； 2、對容易污染、容易電荷積累的納米材料和納米器件進行觀察和分析； 3、可實現固體樣品的微觀形貌觀察和微區能譜成分分析、線分析及面分布分析； 4、配備的背散射探頭可獲得樣品成分襯度圖片； 5、配備的低真空探頭可對不導電樣品進行形貌及成分分析，而不需要進行噴金處理。
本公司掃描電鏡提供對外服務。 | |
